光電會議室。
三個青年人再次聚集在了一起。
雖然青澀的面容，出賣了他們的真實年齡，但這幾位可不是一般的年輕人。
自從顧明，右天相繼退出童子軍後，葉靜，一個女孩子，成了童子軍的實際領導人。正是這段經歷，為她未來的發展，打下了堅實基礎。
嚴亮把更多的精力放到了TFT-LCD的技術演化上，如今也有了一絲精英氣質。
一系列的儲備技術，在他的手里慢慢成形，五步光刻技術，就是他的作品之一。IPS，FFS等一批專利技術，為《全彩科技》提供著應對未來挑戰的底氣。
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「《一號工程》到了啟動的時候。」
上次的零號工程，遭到了大家的一致反對，這才導致了《全彩科技》的誕生。否則白學成公司的名字，應改是《零點科技》才對。
「其實不用說，我們也知道，是不是準備上晶圓項目了？算起來也到時候了啊！」
LCD驅動芯片開發，不是什麼保密的事情。集成電路專業的一幫人，為這個事情已經忙活半年多了。他們不僅僅是忙，更重要的是燒錢。
EDA軟件，一套就要二十幾萬美元。雖然教育機構購買，有一定的優惠，但十幾萬美元還是逃不掉的。
這種大規模集成電路設計，肯定不可能由一個人來完成。多人協同工作，就需要多套軟件。項目什麼成果還沒有看到，近千萬人民幣就消失了蹤影。
這些錢，總不能白花吧。
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「說說看，這個一號工程要怎麼個搞法。」
這兩名同鄉，隨著公司的成長，他們的視角也在不斷提高。對很多問題的觀察點，和觀察角度，都與普通人有了明顯不同。站在巨人的肩膀上，指的就是這個意思。
「我認為，還是要一步步來。我們在晶圓產業上沒有積累。目前的當務之急，還是追平國內的先進的技術，也就是2微米技術。」
葉靜首先給出了建議。
1986年，電子工業部提出了「531」發展戰略，即普及推廣5微米技術，開發3微米技術，攻關1微米技術。
時間已經整整過去了6年，除了一微米這個目標沒有達到以外，其它兩個已經差不多完成。1.5微米的分步投影光刻機，于1985年就已經研制成功。這也是後續的908工程，提出進軍1微米的基礎。
在這個時間點，國內的晶圓廠，已經有不少采用4-5英寸晶圓，2-3微米的技術。
這些前輩們的心血沒有白費，它給光電帶來了足夠高的.asxs。
當然了，這幾年，國際上的半導體工藝，進步也沒有停止。最新建成的幾座晶圓廠，已經進步到0.5微米了。
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「這個觀點，我不同意，我們上項目的目的是什麼？如果最終目的達不到，花這麼多錢，去建一條沒有用的晶圓廠，有什麼意義呢？
要上，我們就要上最先進的，直接上0.35微米！」
隨著不斷的成功，嚴亮的野心也在不斷滋長。尤其是他手里掌握的幾個儲備技術，讓他有了更大的進取心。
在他眼里，國際上所謂的電子巨頭，也就是那麼回事。他們除了有點臭錢以外，還有什麼？冢中枯骨而已。
LED事業，光電的.asxs.很高，一出手就是世界第一。
TFT-LCD雖然差點，但是至少也是第一波。如果晶圓變成了跟著別人後面轉，這不是有損自己的光輝形象嘛！
「0.35微米？你說話過腦子沒有?技術來源在哪里？你知道建一條0.35微米的晶圓廠要多少錢嗎？」
隨著晶圓工藝進程的逐步提高，晶圓廠的造價也在逐步提高。這也是908只要20個億，而909則上升到了100個億的主要原因。
兩者之間的核心區別在與，908的工藝是0.9微米，909則是0.5微米。
0.35微米的晶圓廠的造價，在國際上，已經上升到10億美元級別了。（0.35微米，在國際上的批量的普及，是在95年之後的事情，Pentium Pro就是世界上第一批采用此工藝（P854），第一批量產的芯片。）
當然，這里還有些其他區別，例如產量，晶圓尺寸等。
如果晶圓工藝這麼容易的話，那個破光刻機也就沒有必要牽動這麼多人的心了。
兩個人很快就自己吵了起來。
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「永興，你是啥意見？你不是把我倆叫來，看吵架的吧。」
「你們說的都對，又都不對。」
「怎麼講？」
「晶圓廠要上，但也要考慮現實情況，空喊口號是沒有用的。我們畢竟沒有積累。
但同時，我們的目標也要實現，錢不能白花！如果只是上2微米的晶圓廠，根本沒有意義。」
「咦？你這是啥意思？兩面的話都讓你說全了！」
兩位老鄉同學，都覺得自己的耳朵出了問題。
「這次我準備，用2微米的半導體設備及工藝，來生產1微米的芯片！」
「這怎麼可能？」
「我就知道你腦袋里肯定有東西。」
兩個不同性格的人，在沉思片刻後，發出了完全不同的感嘆。
「你不是在開玩笑吧。如果真有這種技術，為什麼全球這麼多企業每年投入這麼金錢，去改進他們的工藝流程，提高生產設備的精度？908工程是在干什麼？」
葉靜生性比較保守，看事情更多的是看風險。
「這個技術是有的。這也是為什麼這個工程被叫做一號工程的緣故。它的保密級別甚至高于液晶的ODF工藝。」
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「好吧，你說吧。我們準備好了。」
這已經不是第一次了，成永興召集兩人商量一些高度機密性的科技信息。
經過MEMS，LED，以及LCD的不斷洗禮，兩個人對晶圓工藝已經不陌生了。
在後世，人們一提起半導體設備，被津津樂道的，就是光刻機。大家普遍認為，光刻機是中國在半導體工藝上落後的唯一瓶頸。
這句話對，也不對。
對，是因為，中國在半導體工藝領域，被甩得最遠的代表設備就是光刻機。
其他設備，例如蝕刻設備等，它們與國際先進水平，即使有些差距，差距也沒有這麼大，甚至某些設備，國產設備已經開始反攻國際市場。
光刻機決定半導體制程的情況，僅僅是出現在2005年之後。這就是地球人都知道的，ASML的天王山之戰。
ASML在浸入式光刻機上，打了場翻身仗，一舉把日本的幾家競爭對手掀翻在地，從而奠定了在光刻機市場的壟斷地位。
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但實際上，在2005年的前後，決定半導體芯片制程的幾個核心技術，都不是光刻機。因為此時，光波的波長，還沒有撞到極限（193 nm）.
中國已經有了1.5微米的光刻機，但是其他輔助工藝，達不到這麼高的精度。
幾十年來，對光刻設備的要求主要基于摩爾定律，通過減小波長和增大數值孔徑（NA）來獲得更高分辨率。
但是激光的可用波長就那麼幾個，激光波長減少幾次，就無以為繼了。
2004年開始，光刻機就開始使用193nm波長的DUV激光，誰也沒想到，光刻光源被卡在193nm無法進步長達十幾年。
哪怕采用了沉浸式光刻機，也僅僅是使晶圓工藝成功突破了幾個節點。
過了一段時間，半導體工藝的工藝演進路線，再次遇到了類似的問題。後世的14nm，10nm，7nm的技術突破。都不是通過升級光刻機來實現的。
在光刻機無法升級的情況下，為了突破這個障礙，人們開始尋找別的突圍方向。
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隨著科學家們的腦洞大開，一個行之有效的方法，真的被找到了！
更為可喜的是，這個方法思路非常簡單，而且特別適合這個時代。
在完全在不改變設備技術水平的情況下，可以提高晶圓的制程！
之所以這個方法沒有被廣泛宣傳，是因為所有的晶圓廠都在使用。大家都在用的技術，自然就失去了神秘性和趣味性。
燈下黑，指的就是這種情況。